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反射式光學(xué)膜厚儀是一款精準(zhǔn)又好用的薄膜厚度測(cè)量設(shè)備。它能測(cè)低至20納米的超薄薄膜,測(cè)量誤差小于1納米,最快每秒可測(cè)100次,重復(fù)測(cè)量精度高達(dá)0.05納米。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體與微電子制造、顯示面板、光學(xué)器件制造、生物醫(yī)學(xué)、汽車及新材料與新能源研發(fā)等領(lǐng)域,寬光譜覆蓋,采用氘鹵組合光源,光譜覆蓋紫外至近紅外,可解析單層/多層膜厚。
非接觸式膜厚測(cè)量儀廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體與微電子制造、顯示面板、光學(xué)器件制造、生物醫(yī)學(xué)、汽車及新材料與新能源研發(fā)等領(lǐng)域,最高采樣速度100Hz,適配產(chǎn)線快速檢測(cè),提升測(cè)量效率,寬光譜覆蓋,采用氘鹵組合光源,光譜覆蓋紫外至近紅外,可解析單層/多層膜厚。
光學(xué)膜厚儀廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體與微電子制造、顯示面板、光學(xué)器件制造、生物醫(yī)學(xué)、汽車及新材料與新能源研發(fā)等領(lǐng)域,能滿足從晶圓鍍膜、顯示面板薄膜到光學(xué)元件鍍膜、醫(yī)用植入物涂層、汽車玻璃膜層及新能源薄膜的高精度厚度檢測(cè)需求,支持20nm超薄膜厚檢測(cè),準(zhǔn)確度±1nm、重復(fù)精度0.05nm,滿足精密檢測(cè)需求。
反射膜厚測(cè)量儀廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體與微電子制造、顯示面板、光學(xué)器件制造、生物醫(yī)學(xué)、汽車及新材料與新能源研發(fā)等領(lǐng)域,能滿足從晶圓鍍膜、顯示面板薄膜到光學(xué)元件鍍膜、醫(yī)用植入物涂層、汽車玻璃膜層及新能源薄膜的高精度厚度檢測(cè)需求,助力各行業(yè)提升產(chǎn)品質(zhì)量與研發(fā)效率。
反射膜厚儀是一款精準(zhǔn)又好用的薄膜厚度測(cè)量設(shè)備。它能測(cè)低至20納米的超薄薄膜,測(cè)量誤差小于1納米,最快每秒可測(cè)100次,重復(fù)測(cè)量精度高達(dá)0.05納米。它采用雙光源組合,覆蓋紫外到紅外全光譜,抗干擾能力強(qiáng),在振動(dòng)或復(fù)雜環(huán)境下也能穩(wěn)定工作。
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